渦輪分子泵應用于激光分子束外延 Lazer MBE
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渦輪分子泵應用于激光分子束外延 Lazer MBE

Pfeiffer 渦輪分子泵應用于激光分子束外延系統 Lazer MBE
激光分子束外延 Lazer MBE 是一種晶體生長技術, 將半導體襯底放置在超高真空腔體中, 和將需要生長的單晶物質按元素的不同分別放在噴射爐中, 由分別加熱到相應溫度的各元素噴射出的分子流能在襯底上生長出極薄的. 可薄至單原子層水平, 單晶體和幾種物質交替的超晶格結構. 分子束外延主要研究的是不同結構或不同材料的晶體和超晶格的生長, 該方法生長溫度低, 能嚴格控制外延層的層厚組分和摻雜濃度.

分子束外延系統需要高真空環境!
外延系統中的超高真空腔體對真空度要求及其高, 對真空腔體的密封性, 材料放氣率, 微量雜質氣體和水蒸氣比較敏感,德國 Pfeiffer 分子泵可提供穩定的真空環境, 對晶格的生長起到良好的作用

海伯東激光分子束外延 Lazer MBE 客戶案例一: 某真空設備商采購 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 400, HiPace 80 用于激光分子束外延系統, 系統功能
1. 主要針對金屬薄膜及材料器件的氧化物外延生長
2. 超高真空生長室, 直徑 12英寸.
3. 額定基壓:<1x10-6 Torr
4. 配有12個加熱泄流源.
5. 襯底加熱器加熱溫度 950℃
6. 可放置 6個1"的靶及 3個2"的靶
7. 質量流量計控制進入真空腔的流量, 量程 100sccm.
8. 線型進樣室實現全自動送片
渦輪分子泵應用于激光分子束外延 Lazer MBE
分子束外延超高真空系統配置

渦輪分子泵

渦輪分子泵 HiPace 400
接口: DN 100 CF-F
極限真空: < 5X10-10 mbar
氮氣壓縮比: > 1X1011
抽速: 355 l/s

渦輪分子泵

渦輪分子泵 HiPace 80
接口: DN 63 CF-F
極限真空: < 5X10-10 mbar
氮氣壓縮比: > 1X1011
抽速: 67 l/s

隔膜泵

隔膜泵 MVP 020
口徑: DN 8+G1/8”
極限真空: 3 mbar
抽速: 1.2 m3/h
 


Pfeiffer 渦輪分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S, 轉速最高 90,000 rpm, 極限真空最大 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運行時間可以達到 100,000 小時! 普發分子泵提供復合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵干泵共同使用. 更多分子泵典型應用 >>

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